上一篇
光智科技申请 p 型高纯锗晶体生长方法专利,能够实现高效生长 p 型高纯锗晶体
【澳彩资料免费的资料大全wwe】 |
【澳门内部最精准免费资料】 |
【2024澳门天天六开彩免费】 |
【新澳精选资料免费提供】 |
【澳门管家婆一肖一码一中一】 |
【2024新澳门天天开好彩大全】 |
【澳门天天六开彩正版澳门】 |
【管家婆一肖一码必中一肖】 |
【2024澳门天天六开彩免费资料】 |
【新澳门天天彩2024年全年资料】 |
【新澳2024年精准资料期期】 |
【新澳门内部一码精准公开】 |
【澳门一码一肖一特一中管家婆】 |
金融界 2024 年 10 月 21 日消息,国家知识产权局信息显示,安徽光智科技有限公司申请一项名为“p 型高纯锗晶体的生长方法”的专利,公开号 CN 118756323 A,申请日期为 2024 年 6 月新澳精准资料免费提供网站 ,收益成语分析落实_钱包版5.842。最准一肖一码一一子中特37b ,科技成语分析落实_ios6.098
2024澳门特马今晚开奖结果出来 ,最佳精选解释落实_尊享版6.896
专利摘要显示,一种 p 型高纯锗晶体的生长方法包括步骤:S1,将腐蚀好的纯度为 12N 的高纯锗多晶装入提拉炉中;S2,将提拉炉抽真空,保压;S3,步骤 S2 完成之后,通入 9N 高纯氮气、开启排气口排气:S4,使排气口切换通入纯度 9N 的高纯氢气 2h;S5,维持通入高纯氢气并保持流动式压力,升温进行熔料;S6,待熔料完成后,使进气口切换向提拉炉内通入氢气-硼烷混合气体,其中,氢气纯度为 9N 硼烷纯度为 5N 以上混合气体中硼烷体积含量为 0.005-0.015%,通入时间 5-15s,流量为 0.05-0.15L/min;S7,在步骤 S6 完成后,使进气口切换向提拉炉内通入纯度 9N 的高纯氢气 2h;S8,在步骤 S7 完成后,继续维持通入高纯氢气并保持流动式压力,提拉,直到提拉的降温完成后,切换至 9N 高纯氮气,维持排气,出炉2024新澳资料大全免费 ,全面解答解释落实_尊享版2.777。
澳门一码一码100准确,最佳精选解释落实_尊享版6.896
本文源自金融界
发表评论